随后，他开始调试伺服控制系统。这套系统由系统提供的算法支持，可以实时校正平台的运动轨迹，确保硅片在扫描过程中始终保持在设定的轨道上。

“系统，运行控制模拟。”许志远输入指令，平台立刻开始运转。

屏幕上显示出平台的运动轨迹，误差范围始终保持在0.5纳米以内。

“不错，这个精度已经足够了。”他满意地点了点头。

第四步：掩模版与光刻胶的研发

掩模版是光刻机的“模具”，它决定了芯片电路的具体形状和尺寸。许志远从材料堆中取出一块特制的金属板，开始在上面刻蚀电路图案。

他使用的是系统提供的高精度刻蚀设备，这台设备能够在金属表面刻出精确到纳米级的图案。

“完成！”当第一块掩模版刻蚀完成时，许志远长舒了一口气，将它放入光学系统中进行测试。

接下来，他需要研发一种新型的光刻胶。这种材料必须对光线高度敏感，同时具备良好的化学稳定性。

“光刻胶……”许志远走到实验台前，开始调配化学试剂。他根据系统提供的配方，精确地称量每一种成分，将它们混合在一起。

“反应完成，实验光刻胶生成。”许志远将一滴光刻胶涂在硅片上，放入光刻机中进行测试。

许志远在小世界中埋头苦干，时间仿佛凝固了一般。他的动作越来越快，思路越来越清晰，每一个步骤都精准无误。

当最后一颗螺丝拧上时，他站在光刻机的面前，嘴角浮现出一抹笑意。

“光刻机，一号样机，完成！”他轻轻擦了擦额头的汗水，目光中闪过一抹自信。

“接下来，就让那些人见识一下，什么叫真正的技术实力。”

……